沉积设备

用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜。 具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD。 具备近100种膜层工艺。

外延生长二维材料以及拓扑材料、氧化物、氮化物等，如III-V 族,II-VI 族,Si/SiGe ,金属与金属氧化物及GaN,AlN, AlGaN, InGaN, AlGaInN,CIGS，OLED 等

利用激光轰击靶材沉积异质结构金属氧化物（如Fe/SrTiO3、Nb/SrTiO3、BiFeO3等）、高温超导材料、硅氧化物、高K氧化物、金属氮化物、铁电材料等

蒸铟专用设备，满足高品质铟柱沉积的需要，具有成熟的蒸铟的工艺，具有优化的Lift-off工艺设计，满足高厚度、回流、倒装冷焊的工艺前道要求。

多功能Cluster团簇式薄膜沉积/刻蚀系统MBE/PLD/ALD/ICP/RIE/Sputter/IBE/EBE